Seiji Samukawa Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System 9784431547945

Варианты приобретения

Цена: 6986.00р.
Кол-во:
Наличие: Поставка под заказ. Есть в наличии на складе поставщика.
Склад Америка: Есть
При оформлении заказа до: 2025-07-28
Ориентировочная дата поставки: Август-начало Сентября
При условии наличия книги у поставщика.

Добавить в корзину

в Мои желания

Автор: Seiji Samukawa
Название: Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
ISBN: 9784431547945
Издательство: Springer
Классификация:

Физика плазмы

Нанотехнология

Электроника

Полупроводники и сверхпроводники

ISBN-10: 4431547940
Обложка/Формат: Paperback
Страницы: 40
Вес: 0.09 кг.
Дата издания: 17.02.2014
Серия: SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology
Язык: English
Размер: 234 x 156 x 3
Основная тема: Engineering
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Германии
Описание: Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System, Seiji Samukawa