Контакты/Проезд  Доставка и Оплата Помощь/Возврат
История
  +7(495) 980-12-10
  пн-пт: 10-18 сб,вс: 11-18
  shop@logobook.ru
   
    Поиск книг                    Поиск по списку ISBN Расширенный поиск    
Найти
  Зарубежные издательства Российские издательства  
Авторы | Каталог книг | Издательства | Новинки | Учебная литература | Акции | Хиты | |
 

The Drift Diffusion Equation and Its Applications in MOSFET Modeling, Wilfried H?nsch


Варианты приобретения
Цена: 14365.00р.
Кол-во:
Наличие: Поставка под заказ.  Есть в наличии на складе поставщика.
Склад Америка: Есть  
При оформлении заказа до: 2025-07-28
Ориентировочная дата поставки: Август-начало Сентября
При условии наличия книги у поставщика.

Добавить в корзину
в Мои желания

Автор: Wilfried H?nsch
Название:  The Drift Diffusion Equation and Its Applications in MOSFET Modeling
ISBN: 9783709190975
Издательство: Springer
Классификация:

ISBN-10: 3709190975
Обложка/Формат: Soft cover
Страницы: 271
Вес: 0.50 кг.
Дата издания: 30.12.2011
Серия: Computational Microelectronics
Язык: English
Издание: Softcover reprint of
Иллюстрации: Biography
Размер: 244 x 170 x 15
Читательская аудитория: Professional & vocational
Основная тема: Optical and Electronic Materials
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Германии
Описание: To be perfect does not mean that there is nothing to add, but rather there is nothing to take away Antoine de Saint-Exupery The drift-diffusion approximation has served for more than two decades as the cornerstone for the numerical simulation of semiconductor devices.


MOSFET Technologies for Double-Pole Four-Throw Radio-Frequency Switch

Автор: Viranjay M. Srivastava; Ghanshyam Singh
Название: MOSFET Technologies for Double-Pole Four-Throw Radio-Frequency Switch
ISBN: 3319011642 ISBN-13(EAN): 9783319011646
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16769.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book provides analysis and discusses the design of various MOSFET technologies. Coverage includes comparison of Single-gate MOSFET and Double-gate MOSFET switching parameters as well as testing of MOSFETs parameters using image acquisition.

Reliability of High Mobility SiGe Channel MOSFETs for Future CMOS Applications

Автор: Jacopo Franco; Ben Kaczer; Guido Groeseneken
Название: Reliability of High Mobility SiGe Channel MOSFETs for Future CMOS Applications
ISBN: 9400776624 ISBN-13(EAN): 9789400776623
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16769.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book explores the reliability of novel (Si)Ge channel quantum well pMOSFET technology. It proposes a physical model to understand the intrinsically superior reliability of the MOS system consisting of a Ge-based channel and a SiO2/HfO2 dielectric stack.


ООО "Логосфера " Тел:+7(495) 980-12-10 www.logobook.ru
   В Контакте     В Контакте Мед  Мобильная версия