Chemical Vapor Deposition, Srinivasan Sivaram

Автор: Kiyotaka Wasa
Название: Handbook of Sputter Deposition Technology,
ISBN: 1437734839 ISBN-13(EAN): 9781437734836
Издательство: Elsevier Science
Рейтинг:
Цена: 21054.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Faetures a team of contributing authors with backgrounds specializing in the various new applications of sputtering technology. This book introduces the fundamentals of thin films and sputtering deposition, explores the theory and practices of this field, and also covers new technology such as nano-functional materials and MEMS.

Автор: Oscar Alejandro Oviedo; Luis Reinaudi; Silvana Gar
Название: Underpotential Deposition
ISBN: 3319243926 ISBN-13(EAN): 9783319243924
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 18284.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: They also discuss real surface determinations and layer-by-layer growth of ultrathin films, as well as the very latest modeling approaches to UPD based on nanothermodynamics, statistical mechanics, molecular dynamics and Monte-Carlo simulations.

Автор: Cheol Seong Hwang
Название: Atomic Layer Deposition for Semiconductors
ISBN: 1461480531 ISBN-13(EAN): 9781461480532
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 15672.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.