Контакты/Проезд  Доставка и Оплата Помощь/Возврат
История
  +7(495) 980-12-10
  пн-пт: 10-18 сб,вс: 11-18
  shop@logobook.ru
   
    Поиск книг                    Поиск по списку ISBN Расширенный поиск    
Найти
  Зарубежные издательства Российские издательства  
Авторы | Каталог книг | Издательства | Новинки | Учебная литература | Акции | Хиты | |
 

Handbook of Physical Vapor Deposition, Donald M. Mattox


Сейчас книги нет в продаже.
Возможно появится в будущем.

Автор: Donald M. Mattox
Название:  Handbook of Physical Vapor Deposition
Перевод названия: Дональд Мэттокс: Руководство по выпариванию
ISBN: 9780815514220
Издательство: Elsevier Science
Классификация:
ISBN-10: 0815514220
Обложка/Формат: Hardback
Страницы: 944
Вес: 0.00 кг.
Дата издания: 31.12.1998
Читательская аудитория: Professional & vocational
Подзаголовок: Film formation, adhesion, surface preparation and contamination control
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Европейский союз
Описание: Covers various aspects of physical vapor deposition (PVD) process technology from the characterizing and preparing the substrate material, through deposition processing and film characterization, to post-deposition processing. This book also covers substrate characterization, adhesion, cleaning and processing.


      Новое издание
Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing,

Автор: Donald M. Mattox
Название: Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing,
ISBN: 0815520379 ISBN-13(EAN): 9780815520375
Издательство: Elsevier Science
Цена: 38908.00 р.
Наличие на складе: Поставка под заказ.
Описание: Explains various aspects of physical vapor deposition (PVD) process technology from the characterizing and preparing the substrate material, through deposition processing and film characterization, to post-deposition processing.


Handbook of Sputter Deposition Technology,

Автор: Kiyotaka Wasa
Название: Handbook of Sputter Deposition Technology,
ISBN: 1437734839 ISBN-13(EAN): 9781437734836
Издательство: Elsevier Science
Рейтинг:
Цена: 21054.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Faetures a team of contributing authors with backgrounds specializing in the various new applications of sputtering technology. This book introduces the fundamentals of thin films and sputtering deposition, explores the theory and practices of this field, and also covers new technology such as nano-functional materials and MEMS.

Reactive Sputter Deposition

Автор: Depla
Название: Reactive Sputter Deposition
ISBN: 3540766626 ISBN-13(EAN): 9783540766629
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 32142.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: In this valuable work, all aspects of the reactive magnetron sputtering process, from the discharge up to the resulting thin film growth, are described in detail, allowing the reader to understand the complete process.

Amorphous and Nano Alloys Electroless Depositions

Автор: Bangwei Zhang
Название: Amorphous and Nano Alloys Electroless Depositions
ISBN: 0128026855 ISBN-13(EAN): 9780128026854
Издательство: Elsevier Science
Рейтинг:
Цена: 21054.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Amorphous and Nano Alloys Electroless Depositions: Technology, Theory, Structure and Property describes the whole development and the most important subjects (technology, theory, structure and property) up to date of electroless plating (EP). The author concentrates on the fundamental scientific and academic problems (principle, mechanism and theory) in EP today.
Based on the history of EP, this valuable reference describes lots of new EP processes, including electroless Fe based alloy system deposits, formation and theoretical description of electroless alloys, microscopic theory of electroless plating deposits, microscopic structures and surface morphology of electroless deposits, and weldability property of electroless deposits.


ООО "Логосфера " Тел:+7(495) 980-12-10 www.logobook.ru
   В Контакте     В Контакте Мед  Мобильная версия