Контакты/Проезд  Доставка и Оплата Помощь/Возврат
История
  +7(495) 980-12-10
  пн-пт: 10-18 сб,вс: 11-18
  shop@logobook.ru
   
    Поиск книг                    Поиск по списку ISBN Расширенный поиск    
Найти
  Зарубежные издательства Российские издательства  
Авторы | Каталог книг | Издательства | Новинки | Учебная литература | Акции | Хиты | |
 

Design for Manufacturability with Advanced Lithography, Bei Yu; David Z. Pan


Варианты приобретения
Цена: 11179.00р.
Кол-во:
Наличие: Поставка под заказ.  Есть в наличии на складе поставщика.
Склад Америка: Есть  
При оформлении заказа до: 2025-07-28
Ориентировочная дата поставки: Август-начало Сентября
При условии наличия книги у поставщика.

Добавить в корзину
в Мои желания

Автор: Bei Yu; David Z. Pan
Название:  Design for Manufacturability with Advanced Lithography
ISBN: 9783319373935
Издательство: Springer
Классификация:


ISBN-10: 3319373935
Обложка/Формат: Paperback
Страницы: 164
Вес: 0.28 кг.
Дата издания: 23.08.2016
Язык: English
Размер: 234 x 156 x 10
Основная тема: Engineering
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Германии
Описание: This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL).


Design for Manufacturability

Автор: Artur Balasinski
Название: Design for Manufacturability
ISBN: 1493943421 ISBN-13(EAN): 9781493943425
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 14365.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book explains integrated circuit design for manufacturability (DfM) at the product level (packaging, applications) and applies engineering DfM principles to the latest standards of product development at 22 nm technology nodes.

Design for Manufacturability with Advanced Lithography

Автор: Bei Yu; David Z. Pan
Название: Design for Manufacturability with Advanced Lithography
ISBN: 3319203843 ISBN-13(EAN): 9783319203843
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 11179.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL).

Design for Manufacturability and Statistical Design

Автор: Michael Orshansky; Sani Nassif; Duane Boning
Название: Design for Manufacturability and Statistical Design
ISBN: 1441940448 ISBN-13(EAN): 9781441940445
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 26120.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Design for Manufacturability and Statistical Design: A Comprehensive Approach presents a comprehensive overview of methods that need to be mastered in understanding state-of-the-art design for manufacturability and statistical design methodologies.

Analog Layout Generation for Performance and Manufacturability

Автор: Koen Lampaert; Georges Gielen; Willy M.C. Sansen
Название: Analog Layout Generation for Performance and Manufacturability
ISBN: 0792384792 ISBN-13(EAN): 9780792384793
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 22354.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Outlines a criterion to quantify the detectability of a fault and combines this with a yield model to evaluate the testability of an integrated circuit layout. This book is intended for analog engineers, researchers and students.

Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication

Автор: Mack
Название: Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication
ISBN: 0470727306 ISBN-13(EAN): 9780470727300
Издательство: Wiley
Рейтинг:
Цена: 9179.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication presents a complete theoretical and practical treatment of the topic of lithography for both students and researchers. This sole-authored text includes optional computer simulation exercises as well as problems at the end of each chapter.

Scanning Probe Lithography

Автор: Hyongsok T. Soh; Kathryn Wilder Guarini; Calvin F.
Название: Scanning Probe Lithography
ISBN: 1441948945 ISBN-13(EAN): 9781441948946
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 23757.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Scanning Probe Lithography (SPL) describes recent advances in the field of scanning probe lithography, a high resolution patterning technique that uses a sharp tip in close proximity to a sample to pattern nanometer-scale features on the sample.

Scanning Probe Lithography

Автор: Hyongsok T. Soh; Kathryn Wilder Guarini; Calvin F.
Название: Scanning Probe Lithography
ISBN: 0792373618 ISBN-13(EAN): 9780792373612
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 23757.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Describes advances in the field of scanning probe lithography, a high resolution patterning technique that uses a sharp tip in close proximity to a sample to pattern nanometer-scale features on the sample. This book describes the historical context, the relevant inventions, and the prospects for eventual manufacturing use of this technology.

Design for Manufacturability

Автор: Balasinski Artur
Название: Design for Manufacturability
ISBN: 1461417600 ISBN-13(EAN): 9781461417606
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16979.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book explains integrated circuit design for manufacturability (DfM) at the product level (packaging, applications) and applies engineering DfM principles to the latest standards of product development at 22 nm technology nodes.

The Physics of Submicron Lithography

Автор: Kamil A. Valiev
Название: The Physics of Submicron Lithography
ISBN: 1461364612 ISBN-13(EAN): 9781461364610
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 27950.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: In this method the device is imaged as a pattern on a metal film that has been deposited onto a transparent substrate and by means of a broad stream of light is transferred to a semiconductor wafer within which the physical structure of the devices and the integrated circuit connections are formed layer by layer.

Alternative Lithography

Автор: Clivia M. Sotomayor Torres
Название: Alternative Lithography
ISBN: 1461348366 ISBN-13(EAN): 9781461348368
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 20962.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Good old Gutenberg could not have imagined that his revolutionary printing concept which so greatly contributed to dissemination of knowledge and thus today `s wealth, would have been a source of inspiration five hundred years later.

Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication

Автор: Weimin Zhou
Название: Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication
ISBN: 3642344275 ISBN-13(EAN): 9783642344275
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 19591.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: With hundreds of explanatory figures and tables, this volume deals with the latest achievements in hot areas such as nanofabrication and nanotechnology, with multi-disciplinary results on promising low-cost, high-throughput nanostructure manufacturing methods.

Semiconductor Lithography

Автор: Wayne M. Moreau
Название: Semiconductor Lithography
ISBN: 1461282284 ISBN-13(EAN): 9781461282280
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16979.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: In fabricating a semiconductor device such as a transistor, a series of hot processes consisting of vacuum film deposition, oxidations, and dopant implantation are all patterned into microscopic circuits by the wet processes of lithography.


ООО "Логосфера " Тел:+7(495) 980-12-10 www.logobook.ru
   В Контакте     В Контакте Мед  Мобильная версия