Jingsong Wei Laser Heat-Mode Lithography 9789811509421

Варианты приобретения

Цена: 13974.00р.
Кол-во:
Наличие: Поставка под заказ. Есть в наличии на складе поставщика.
Склад Америка: Есть
При оформлении заказа до: 2025-07-28
Ориентировочная дата поставки: Август-начало Сентября
При условии наличия книги у поставщика.

Добавить в корзину

в Мои желания

Автор: Jingsong Wei (Вей Чжиньсонь)
Название: Laser Heat-Mode Lithography
Перевод названия: Вей Чжиньсонь: Лазерная литография в тепловом режиме
ISBN: 9789811509421
Издательство: Springer
Классификация:

Физика конденсированных сред (физика веществ в жидком и твёрдом состоянии)

Лазерная физика

Электроника

Электронные устройства и материалы

ISBN-10: 9811509425
Обложка/Формат: Hardcover
Страницы: 208
Вес: 0.51 кг.
Дата издания: 2019
Серия: Springer Series in Materials Science
Язык: English
Издание: 1st ed. 2019
Иллюстрации: 160 illustrations, color; 22 illustrations, black and white; xiii, 208 p. 182 illus., 160 illus. in color.; 160 illustrations, color; 22 illustrations
Размер: 234 x 156 x 14
Читательская аудитория: Professional & vocational
Основная тема: Physics
Подзаголовок: Principle and Methods
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Германии
Описание: This book provides a systematic description and analysis of laser heat-mode lithography, addressing the basic principles, lithography system, manipulation of feature size, grayscale lithography, resist thin films, and pattern transfer, while also presenting typical experimental results and applications. It introduces laser heat-mode lithography, where the resist thin films are essentially an opto-thermal response to the laser beam with changeable wavelength and are not sensitive to laser wavelength. Laser heat-mode lithography techniques greatly simplify production procedures because they require neither a particular light source nor a particular environment; further, there are no pre-baking and post-baking steps required for organic photoresists. The pattern feature size can be either larger or smaller than the laser spot by adjusting the writing strategy. The lithographic feature size can also be arbitrarily tuned from nanoscale to micrometer without changing the laser spot size. Lastly, the line edge roughness can be controlled at a very low value because the etching process is a process of breaking bonds among atoms. The book offers an invaluable reference guide for all advanced undergraduates, graduate students, researchers and engineers working in the fields of nanofabrication, lithography techniques and systems, phase change materials, etc.
Дополнительное описание: Current status of lithography.- Principles of laser heat-mode lithography and thermal diffusion.- Laser heat-mode maskless lithography system.- Manipulation of thermal diffusion channels.- Laser heat-mode nanolithography on phase-change thin films.- Direc

Laser Heat-Mode Lithography, Jingsong Wei