Контакты/Проезд  Доставка и Оплата Помощь/Возврат
История
  +7(495) 980-12-10
  пн-пт: 10-18 сб,вс: 11-18
  shop@logobook.ru
   
    Поиск книг                    Поиск по списку ISBN Расширенный поиск    
Найти
  Зарубежные издательства Российские издательства  
Авторы | Каталог книг | Издательства | Новинки | Учебная литература | Акции | Хиты | |
 

Ion Implantation Range and Energy Deposition Distributions, K. Bruce Winterbon


Варианты приобретения
Цена: 13974.00р.
Кол-во:
Наличие: Поставка под заказ.  Есть в наличии на складе поставщика.
Склад Америка: Есть  
При оформлении заказа до: 2025-07-28
Ориентировочная дата поставки: Август-начало Сентября
При условии наличия книги у поставщика.

Добавить в корзину
в Мои желания

Автор: K. Bruce Winterbon
Название:  Ion Implantation Range and Energy Deposition Distributions
ISBN: 9781475756142
Издательство: Springer
Классификация:

ISBN-10: 1475756143
Обложка/Формат: Paperback
Страницы: 341
Вес: 0.84 кг.
Дата издания: 22.10.2013
Язык: English
Размер: 297 x 210 x 19
Основная тема: Materials Science
Подзаголовок: Volume 2: Low Incident Ion Energies
Ссылка на Издательство: Link
Рейтинг:
Поставляется из: Германии


Ion Implantation: Basics to Device Fabrication

Автор: Emanuele Rimini
Название: Ion Implantation: Basics to Device Fabrication
ISBN: 146135952X ISBN-13(EAN): 9781461359524
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 26122.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Ion implantation offers one of the best examples of a topic that starting from the basic research level has reached the high technology level within the framework of microelectronics.

Ion Implantation and Synthesis of Materials

Автор: Michael Nastasi; James W. Mayer
Название: Ion Implantation and Synthesis of Materials
ISBN: 3642062598 ISBN-13(EAN): 9783642062599
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16977.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Ion implantation is one of the key processing steps in silicon integrated circuit technology. This book presents the physics and materials science of ion implantation and ion beam modification of materials.

Handbook of Sputter Deposition Technology,

Автор: Kiyotaka Wasa
Название: Handbook of Sputter Deposition Technology,
ISBN: 1437734839 ISBN-13(EAN): 9781437734836
Издательство: Elsevier Science
Рейтинг:
Цена: 21054.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Faetures a team of contributing authors with backgrounds specializing in the various new applications of sputtering technology. This book introduces the fundamentals of thin films and sputtering deposition, explores the theory and practices of this field, and also covers new technology such as nano-functional materials and MEMS.

Laser Processing: Surface Treatment and Film Deposition

Автор: J. Mazumder; O. Conde; R. Vilar; W. Steen
Название: Laser Processing: Surface Treatment and Film Deposition
ISBN: 9401065721 ISBN-13(EAN): 9789401065726
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 12157.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Sesimbra, Portugal, July 3-16, 1994

Chemical Vapour Deposition

Автор: Xiu-Tian Yan; Yongdong Xu
Название: Chemical Vapour Deposition
ISBN: 1848828934 ISBN-13(EAN): 9781848828933
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 26122.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Chemical Vapour Deposition explores the design capabilities and applications of advanced materials. From physical fundamentals to the optimization of processing parameters, this volume presents the development and manufacture of high performance materials.

Deposition of Diamond-Like Superhard Materials

Автор: Wilhelm A.M. Kulisch
Название: Deposition of Diamond-Like Superhard Materials
ISBN: 366215627X ISBN-13(EAN): 9783662156278
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 13974.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book deals with the deposition of a certain class of materials, namely the diamond-like superhard materials, in the form of thin films. Starting from concepts used to improve the hardness of a material, it is shown that the intrinsic hardness is highest for materials with low bond lengths, high coordination numbers, and low ionicities.

Ion Implantation in Microelectronics

Автор: A. H. Agajanian
Название: Ion Implantation in Microelectronics
ISBN: 1468461346 ISBN-13(EAN): 9781468461343
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 13974.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: During the past ten years the use of ion implantation for doping semiconductors has become an active area of research and new device development. The main sources searched were: Physics Abstracts (PA) , Electrical and Electronics Abstracts (EEA) , Chemical Abstracts (CA) , Nuclear Science Abstracts (NSA) , and Engineering Index.

Ion Implantation Techniques

Автор: H. Ryssel; H. Glawischnig
Название: Ion Implantation Techniques
ISBN: 3642687814 ISBN-13(EAN): 9783642687815
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 18284.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: In recent years, ion implantation has developed into the major doping technique for integrated circuits. Several series of conferences have dealt with the application of ion implantation to semiconductors and other materials (Thousand Oaks 1970, Garmisch-Partenkirchen 1971, Osaka 1974, Warwick 1975, Boulder 1976, Budapest 1978, and Albany 1980). Another series of conferences was devoted more to implantation equipment and tech- niques (Salford 1977, Trento 1978, and Kingston 1980). In connection with the Third International Conference on Ion Implantation: Equipment and Tech- niques, held at Queen's University, ' Kingston, Ontario, Canada, July 8-11, 1980, a two-day instructional program was organized parallel to an implan- tation conference for the first time. This implantation school concentra- ted on aspects of implantation-equipment design. This book contains all lectures presented at the International Ion Implantation School organized in connection with the Fourth International Conference on Ion Implantation: Equipment and Techniques, held at the Convention Center, Berchtesgaden, Germany, September 13-17, 1982. In con- trast to the first .school, the main emphasis in thiS school was placed on practical aspects of implanter operation and application. In three chap- ters, various machine aspects of ion implantation (general concepts, ion sources, safety, calibration, dOSimetry), range distributions (stopping power, range profiles), and measuring techniques (electrical and nonelec- tri ca 1 measu ri ng techni ques, annea 1 i ng) are di scussed. In the appendi x, a review of the state of the art in modern implantation equipment is given.

Functional nanostructures fabricated by focused electron/ion beam induced deposition

Автор: Cordoba Castillo, Rosa
Название: Functional nanostructures fabricated by focused electron/ion beam induced deposition
ISBN: 3319020803 ISBN-13(EAN): 9783319020808
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 15672.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book offers a detailed study of functional nanostructures (ferromagnetic, superconducting, metallic and semiconducting) fabricated by focused electron/ion beam induced deposition techniques.

Functional Nanostructures Fabricated by Focused Electron/Ion Beam Induced Deposition

Автор: Rosa C?rdoba Castillo
Название: Functional Nanostructures Fabricated by Focused Electron/Ion Beam Induced Deposition
ISBN: 3319375539 ISBN-13(EAN): 9783319375533
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 13059.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: This book offers a detailed study of functional nanostructures (ferromagnetic, superconducting, metallic and semiconducting) fabricated by focused electron/ion beam induced deposition techniques.

Chemical Vapor Deposition Polymerization

Автор: Jeffrey B. Fortin; Toh-Ming Lu
Название: Chemical Vapor Deposition Polymerization
ISBN: 1441954139 ISBN-13(EAN): 9781441954138
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 16977.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Chemical Solution Deposition of Functional Oxide Thin Films

Автор: Theodor Schneller; Rainer Waser; Marija Kosec; Dav
Название: Chemical Solution Deposition of Functional Oxide Thin Films
ISBN: 3709119154 ISBN-13(EAN): 9783709119150
Издательство: Springer
Рейтинг:
Цена: 26120.00 р.
Наличие на складе: Есть у поставщика Поставка под заказ.

Описание: Chemical Solution Deposition (CSD) is a highly-flexible and inexpensive technique for the fabrication of functional oxide thin films. Featuring nearly 400 illustrations, this text covers all aspects of the technique.


ООО "Логосфера " Тел:+7(495) 980-12-10 www.logobook.ru
   В Контакте     В Контакте Мед  Мобильная версия